化学抛光机-旋转涂膜机-硬组织磨片机-沈阳科晶自动化设备

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技术文章/Article

2025-06-20
沈阳科晶参加中国矿物岩石地球化学学会第19届学术年会
4月18日-21日，中国矿物岩石地球化学学会第十九届学术年会在武汉盛大开幕。会议由中国矿物岩石地球化学学会主办，中国地质大学（武汉）地球科学学院，中国地质大学（武汉）地质过程与矿产资源国家重点实验室，中国科学院地球化学研究所承办。汇聚了来自全国各地的1500余位专家学者，深入探讨新研究成果，携手攻克科学难题。本届会议聚焦“宜居地球的形成与演变”主题，围绕34个专题展开近900个口头报告，内容涵盖矿物学、岩石学、地球化学以及行星科学等前沿领域，充分展现了地球科学的多学科交叉与融...
2025-06-20
中国晶体学会第二届陶瓷青年学术会议暨先进陶瓷材料创新发展国际研讨会
中国晶体学会第二届陶瓷青年学术会议暨先进陶瓷材料创新发展国际研讨会于2025年4月11日至4月13日在河南省郑州市顺利召开。本届大会以加快建设科技强国，实现高水平科技自立自强，围绕“先进陶瓷材料创新发展”主题，聚焦先进陶瓷材料设计、制备与应用学术前沿，展示我国在先进陶瓷材料领域内的新理念和新成果，打造更高质量的合作与交流平台，促进我国先进陶瓷科学事业的传承和发展。各分会场将邀请众多业内专家学者与会，带来精彩绝伦的主旨报告及邀请报告，为参会者生动呈现学术前沿动态。会议组织委员会...
2025-06-20
沈阳科晶参加第四届先进陶瓷高峰论坛（4.11-13，江苏南京）
4月11日至13日，第四届先进陶瓷高峰论坛在南京成功举办。"先进陶瓷高峰论坛”是由《先进陶瓷(英文)》(JournalofAdvancedCeramics)编辑部和《现代技术陶瓷》编辑部(以下简称两刊)联合主办的一个专业性学术会议，旨在搭建期刊编者、作者及读者(审稿人)之间的一个线下交流平台。分别于2021年4月、2023年4月和2024年4月举办的第一届、第二届、第三届先进陶瓷高峰论坛均吸引了近千名专家、学者、研究生及相关企业技术人员参会。本次论坛吸引了共计1100余名来自...
2025-06-20
沈阳科晶参加第二届应用物理会议（4.10-13，四川成都）
2025年4月10-13日，第二届应用物理会议在位于四川省成都市的电子科技大学成功举办。本届会议由中国物理学会主办、电子科技大学和中国科学院物理研究所应用物理中心联合承办。会议旨在助力科技强国建设，充分发挥物理研究在推动科技创新中的关键作用，促进从事基础和应用物理前沿研究的科研人员与产业界人士之间的学术交流与交叉融合。本届会议设置半导体物理与器件、红外物理与光电器件、太赫兹/微波/毫米波物理与技术、量子传感与探测、先进光学、应用磁学、条件物理与技术七个主题，共安排大会特邀报告...
2025-06-20
沈阳科晶参加第六届青年行星论坛（3.25-30，安徽黄山）
2025年3月25-28日，第六届青年行星论坛在安徽屯溪盛大开幕。本次论坛由青年行星论坛理事会、中国高校行星科学联盟举办、中国科学技术大学地球和空间科学学院承办，共设置十六个主题（包含五个特色项目），吸引了国内外众多青年学者、企业代表积极参与。“青年行星论坛”是由行星科学领域的青年研究学者发起，以国内外行星科学家为顾问，以优秀青年科学家为核心，以青年学者及学生为主体，搭建的定期、组织化的交流合作平台。自2016年创办以来，已先后由中科院地质与地球物理研究所、中科院地球化学研究...
2025-06-10
金刚石线切割机的切割速度快、对材料的损伤小
相比传统的切割方法，金刚石线切割机的切割速度更快，能够提高生产效率，能够实现微米级甚至更高精度的切割，满足对尺寸精度和表面质量要求高的加工需求，在切割过程中，对材料的损伤小，能够保证材料的原有性能和质量，可以切割各种硬质材料，包括脆性材料和高硬度材料等。金刚石线切割机的使用注意事项：1.安全防护方面：操作人员必须穿戴好个人防护装备，如手套、护目镜、防护服等，防止在操作过程中受到金刚石线割伤、飞溅的切屑伤害以及切割液溅入眼睛等。在设备运行过程中，严禁将手或其他物体伸入切割区域，...
2025-06-03
金刚石线切割机的主要组成部分
金刚石线切割机通过驱动系统带动金刚石线进行单向循环或往复循环运动。在切割过程中，金刚石线与被切割物件间形成相对的磨削运动，从而对材料进行切割。例如，在切割晶体等硬脆材料时，金刚石线在高速运动下，其表面的金刚石颗粒不断对材料进行磨削，使材料逐渐被分割。金刚石线切割机的主要组成部分：-机床主体：提供稳定的结构支撑，保证切割过程的精度和稳定性。通常采用高强度、高刚性的材料制造，以减少振动和变形对切割质量的影响。-金刚石线：是切割的核心部件，由金刚石磨料和金属基体组成。金刚石具有较高...
2025-05-13
磁控溅射仪能够制备多种类型的薄膜材料
磁控溅射仪能够制备多种类型的薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。对于不同的靶材，需要根据其导电性选择合适的溅射模式，如直流溅射适用于导电良好的金属靶材，射频溅射则可用于绝缘或半导体靶材。此外，还可以通过调整溅射参数，如功率、气压、基片温度等，来准确控制薄膜的厚度、成分和性能，以满足不同应用场景的需求。在溅射过程中，溅射粒子从靶材表面飞出后，沿着一定的轨迹向基片迁移并沉积在其表面，逐渐形成薄膜。由于磁场对带电粒子的约束，使得更多的离子能够参与到轰击靶材的过程中，不仅...

2025-06-24
研磨抛光机的关键部件有哪些？
研磨抛光机每次使用后，应及时清理磨料、杂质和油污等，保持机器的清洁。特别是研磨盘和抛光盘，要定期清洗，防止磨料残留影响加工效果；对机器的传动部件和滑动部位进行定期润滑，如轴承、导轨等，以减少磨损，延长机器的使用寿命；定期检查研磨盘、抛光盘、电机等关键部件的磨损情况，如发现磨损严重或损坏，应及时更换，以确保机器的正常运行；长时间不使用时，应存放在干燥、通风的地方，避免受潮和生锈。同时，要将机器的电源拔掉，以防止意外发生。研磨抛光机的测定步骤：1.外观检查：查看机身是否完好，有无...
2025-06-18
研磨抛光机的主要类型
研磨抛光机主要是通过电动机带动安装在机器上的研磨盘或抛光盘高速旋转，研磨盘或抛光盘与待处理表面进行摩擦，从而达到去除表面污染、氧化层、浅痕等目的。不同的类型工作方式略有差异，例如磁力型利用磁场作用使磨料和工件在磁场中产生相对运动，实现对工件表面的研磨抛光；而双面研磨机则是将工件放置在两个研磨盘之间，通过研磨盘的旋转和压力作用对工件的双面同时进行研磨加工。研磨抛光机的主要类型：-手持式：体积小、重量轻，便于携带和操作，适用于小型工件或局部区域的研磨抛光，如模具制造中的一些细节部...
2025-06-17
冷等静压机是一种用于材料成型的设备
冷等静压机是一种在常温下对粉末或颗粒材料施加均匀各向同性压力，以实现致密化和成型的设备，主要通过液体或气体介质在高压容器中对粉体进行均匀加压，以实现材料的致密化。其工作原理基于帕斯卡原理，即不可压缩的流体中，任何一点所受的压强会均匀地传递到流体的各个方向。因此，冷等静压机能够使物料在各个方向上受到一致的压力，从而实现高致密度、高均匀性的坯体成型。冷等静压机利用帕斯卡定律，即密闭容器中的流体压力均匀传递至各个方向。将装入密封、弹性模具中的物料置于盛装液体(如水或油)或气体的容器...
2025-05-30
直流磁控溅射仪在科学研究和工业应用中发挥着重要的作用
直流磁控溅射仪是一种基于磁场与直流电场协同作用实现金属薄膜快速沉积的表面镀膜设备,直流磁控溅射仪主要用于在真空室内通过直流电源施加电压，使氩气电离,产生的氩离子轰击靶材，使靶材表面的原子或分子沉积在基片上形成薄膜‌‌。直流溅射磁控仪的优点包括基片升温低、沉积速率快、膜层损伤小等。只要能把材料制成靶材，都可以使用直流溅射磁控仪进行溅射镀膜。同时，溅射所制备的薄膜在膜基结合力、致密性、纯度和成膜均匀性等方面都有良好的表现。此外，它的制备工艺具有很好的重复性和厚度均匀性，适用于大面...
2025-05-27
蒸发镀膜仪是制备集成电路的关键设备之一
在半导体制造中，蒸发镀膜仪可用于沉积金属电极、绝缘层等薄膜，是制备集成电路的关键设备之一。例如，通过蒸发铝等金属，可以在硅片上形成导电的电极，实现电子元件之间的连接。在电子元器件的生产中，如电容器、电感器等，也常常利用蒸发镀膜技术来制备薄膜介质或导电层，以提高器件的性能和可靠性。用于制造光学镜片的增透膜、反射膜等。通过蒸发特定的材料，如氟化镁、银等，可以在光学镜片表面形成一层厚度均匀、光学性能优良的薄膜，减少光线的反射损失，提高镜片的透光率或反射率。在激光技术中，可用于制备激...
2025-05-21
蒸发镀膜仪可适用于多种材料的蒸发
蒸发镀膜仪的核心在于利用真空环境，降低材料的蒸发温度，使其在相对较低的温度下就能蒸发成气态。这些气态粒子在真空中扩散，当遇到温度较低的基底时，便会在其表面凝结，逐渐形成一层均匀的薄膜。为了实现这一过程，通常配备有真空系统，以确保腔体内达到足够的真空度，减少气体分子的干扰，从而保证薄膜的纯度和质量。在加热蒸发材料方面，常见的方式有电阻加热、电子束加热等。电阻加热是通过电流流过特定的加热元件，如钨丝、钼舟等，使其产生高温，进而加热蒸发材料。这种方式简单易行，适用于多种材料的蒸发。...
2025-04-09
真空旋转涂膜机是一种利用真空环境与旋转离心力相结合实现薄膜均匀涂覆的高精度设备
真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中，用于薄膜的生成过程。它适用于各种科研和工业应用，特别是在半导体工艺和纳米制造中‌。此外，该设备还广泛应用于材料科学、微电子学、光学、生物医学等领域。真空旋转涂膜机是一种利用真空环境与旋转离心力相结合，实现薄膜均匀涂覆的高精度设备，广泛应用于半导体、光学、材料科学等领域。‌‌真空旋转涂膜机主要用于在实验室中制备均匀、薄且高质量的薄膜。‌它通过高速旋转基片，利用离心力将胶液均匀地涂覆在基片上，适用于各种科研和工业应用，特别是在...
2025-03-06
超声喷雾热解涂膜机是一种用于制备薄膜的设备
‌超声喷雾热解涂膜机主要通过将溶液雾化后喷涂到加热的基底上，然后在基底上得到所需的物质结构。这种方法适用于沉积氧化物，并且在制备透明电极和钙钛矿型太阳能电池中已有广泛应用‌。超声喷雾热解涂膜机适用于沉积氧化物薄膜，并且在制备透明导电体、钙钛矿太阳能电池等领域有广泛应用。此外，它还可以用于制备其他功能性薄膜，如催化剂薄膜、传感器薄膜等。超声喷雾热解涂膜机通过超声波的高频振动能量，将液态前驱体(通常包含所需的金属盐、有机金属化合物或其他可溶性材料)雾化成微小且均匀的液滴。这些液滴...