混气系统2路质子GSL-2Z是用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架内，管式炉可以放在移动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀，可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外。

混气系统3路质子GSL-3Z是用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架内，管式炉可以放在移动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀，可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

混气系统4路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架内，管式炉可以放在移动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀，可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

小型两通道供气系统CGM-2F是一种紧凑型双通道微量气体混合供气系统，输入的两种不同气体通过调节压力和流量，即可输出一种较准确的混合性气体，可用以小型管式炉、手套箱、等离子清洗机、小型PECVD系统。

多路浮子控制供气系统GSL-3F适用于控制一种到三种气体的通入，管式炉可以置于其上，可用于CVD系统及退火炉，可用来研究气体环境对材料的影响。

精密氮气发生器DFN-500是一种小型高纯度气体发生器，它产生气体的速率可达到500ml/min，且气体纯度99.99%，是化学和材料实验室的理想设备。