1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温度可达1400℃。

1400℃双温区真空气氛管式炉GSL-1400X-II以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别适合批量生产使用。

1400℃三温区真空气氛管式炉GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和708P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别适合批量生产使用。

1500℃高温真空管式炉GSL-1500X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温度可达1500℃。

1500℃三温区开启式管式炉OTF-1500X-III是高温管式炉，Z高温度可达1500℃，三个温区分别用三个独立的温控系统控制，每个温区都可以设置30段升降温程序，并设有过热和断偶保护功能，控温精度高达±1℃。本机特别适合于在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结。