1100℃多工位管式炉GSL-1100X-S是小口径管式炉，专为制备小型样品而设计Z高温度可达1100℃。炉体可垂直或水平放置，以满足不同的应用，如样品加热、VSL、CVD 、淬火试验等。

1100℃带校准系统管式炉GSL-1100X-50-LVT是分体式真空管式炉，配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶一套，将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部，即可在OMEGA测温仪上读取样品实时温度。采用30段可编程温度控制仪，可根据实验要求设置所需要的升温速率。但要注意炉体在加热过程中真空度不能高于10-2torr，否则容易造成炉管的损坏 。

6″单温区CVD真空管式炉GSL-1100X-6-S是一款炉管内径为6″的真空管式炉，可以在不同气氛下，在Z大5″的基片上生长多种薄膜。

8.5″单温区CVD真空管式炉GSL-1100X-8.5-S是一款炉管外径为8.5″ 的真空管式炉，可以在不同气氛下，在Z大6″的基片上生长多种薄膜。

8.5″带滑动法兰真空管式炉GSL-1100X-8.5-SR是三温区滑轨真空管式炉，可通入混合气体进行低压力化学气相沉积处理。本机可在不同气氛下，在Z大6″的基片上生长多种薄膜。

1100℃三温区8.5″管式炉GSL-1100X-8.5-III是三温区大尺寸系列管式炉，石英管外径为 8.5″，加热管一端设有一对高真空不锈钢法兰，法兰上配有机械压力表和阀门。本机广泛用于材料或化学实验室的材料烧结或退火（在真空或惰性气体环境下），是一款理想的退火、扩散、烧结设备。