4“真空立式淬火炉OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可开启真空管式淬火炉，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，样品可从Z高温度1200℃环境到冰水或冷油中，可用于研究材料相转变和微结构性能。

1700℃ 8升氢气炉KSL-1700X-H2属于高温箱式炉，专门针对于材料在氢气或惰性气体环境下进行烧结或退火的使用。采用氧化铝纤维作为炉膛材料，钼丝作为加热元件，Z高温度可高达1700℃，冷却水管嵌入炉体顶部密封板中，能有效地保证工作时的冷却需要及密封性。因此，本机是需在惰性气体或还原性气体环境下烧结材料（如钛合金、荧光材料等）的Z佳选择。

小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4″石英管和真空法兰，是专为半导体或太阳能电池基片（Z大3″）的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热，Z快升温速度为 50℃/s，设有30 段温度控制，精度为±1℃。此外，通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4″石英管及高真空系统（机械泵+分子泵）， 是专为半导体或太阳能电池基片（Z大3″）的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热，Z快升温速度为50℃/s，设有30 段温度控制，精度为±1℃。此外，通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉，采用红外灯加热和移动炉体快速冷却，可获得Z高升温速率为100°C/s 、降温速率为5°C/s。

双管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的双管CVD系统，是专为在金属箔上生长薄膜而设计的，特别适用于新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。本机可通过滑动炉体，实现快速加热和冷却。