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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉,采用红外灯加热和移动炉体快速冷却,可获得Z高升温速率为100°C/s 、降温速率为5°C/s。
1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨,可手动进行炉体移动,Z高工作温度达1200°C,加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s。为获得Z快加热,可预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置;为获得Z快冷却,可在样品加热后移动炉子至另一端,本机是低成本进行快速热处理的理想设备。
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。
生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉,专为生长各种纳米线而设计,基片Z大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器,可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。