2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材，适用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，因此可溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。且采用高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD频率为13.56MHz，专门与本司1“的磁控溅射头配用，可搭建成一套较廉价的溅射镀膜系统，用于制作非导电薄膜。

300W小型自动匹配型射频电源RF-300I-LD将自动匹配器和13.56MHz的射频电源集成在一起，可以自动匹配容抗和感抗，使得安装和操作更加方便容易。配用本司的磁控溅射头可自行搭建磁控溅射镀膜仪。

500W直流溅射电源DC-500-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪和VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪，主要为溅射仪提供直流电源，配合磁控溅射头达到溅射靶材的目的。