EQ-500SP注射泵属于推进式注射泵，注液速度可在一定范围内进行调节，可根据实验需求不同设置不同的注液速度，满足不同实验要求的需要。注射器的容积不同，装液量有所不同，该设备标配20ml注射器。

HVC-SKJ真空腔体可用作于晶体生长炉炉腔，也可用于搭建其他真空系统。

HVC-SS高真空腔体用于自行搭建实验真空系统，如等离子溅射、CVD或ALD等实验，同时也可作为高真空储存箱。

2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材，适用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，因此可溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。且采用高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD频率为13.56MHz，专门与本司1“的磁控溅射头配用，可搭建成一套较廉价的溅射镀膜系统，用于制作非导电薄膜。