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HVMSS-SPC-2 2英寸高真空磁控溅射头

简要描述:2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材,适用靶材种类较广,如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上,以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2018-11-05
  • 访  问  量:779

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详细介绍

品牌其他品牌产地类别国产

       2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪,该磁控溅射头可安装直径为2"的靶材,适用靶材种类较广,如金属靶材(如金、银、铜等材料)、绝缘靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。该磁控溅射头配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上,以保证溅射镀膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀性。该磁控溅射头可与DC或RF电源配合使用来溅射不同种类的样品。

产品型号

  2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2

主要特点

  1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。

  2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。

  3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。

  4、标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配。

  5、安装采用标准真空接头,便于操作。

  6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。

技术参数

  1、阳极护罩直径:Φ3.5"

  2、所用靶材:直径2"(50.8mm),非磁性靶zui大厚度1/4",磁性靶zui大厚度1/16"      

  3、磁铁:NdFeB稀土永磁体

  4、靶材利用率:30%

  5、所需功率:DCzui大1000WRFzui大500W

  6、溅射电流:zui大3A

  7、溅射电压:100V-1000V

  8、溅射时腔体真空度:5mtorr-100mtorr

  9、溅射均匀性曲线:

                 

  10、水冷却:水管外径0.25",流速0.8GPM,进水温度<20℃                    

产品规格

         

可选配件

  1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L。

  2、同时购买300W射频发射器和2"磁控溅射头时,本司赠送1个高真空快速接头。接头内径为0.75",可将溅射

    头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1",真空腔体的壁厚不得大于1"

         

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