GSL-1100X-PJF-(A)等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统,主要由射频发生器、离子束头组成,喷射的离子束流能在较低的温度和非真空条件下活化和清理材料表面(例如单晶片、光学元件、塑料等),且清理速度迅速,清理后的物品表面干净。使材料进行预先表面处理,为获得高质量的外延薄膜或使光学涂层得到显著的效果做准备工作。
PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Φ160mm×190mm的石英腔体,采用的射频电源功率3.0MHz( 1%),输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。
PCE-8等离子清洗机是一款较大型的清洗机,等离子腔体为 Φ8.5 “×12“的石英腔体,采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。
产品简介:PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术,采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵,清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,可短时间内*清洗掉有机污染物,清洗程度可达到分子级。样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现对样品的离子蚀刻。此外,其可在特定条件下
PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø160mm×190mm的石英腔体,采用的射频电源功率为3.0MHz(1%),输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。