VTC-50A旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式，调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达1000-8000RPM范围内都非常稳定。本机启动快速、转数稳定，可以保证膜层厚度的均匀性与*性。此外，在安装结构上，采取了减震措施，使得运转时噪音很低。该设备操作简单、清理方便，体积小巧，因此该设备被广泛应用于各大专院校及科研院所当中。

VTC-100真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。设备标配3个不同大小的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备利用两段程序控制速度。首先开动涂膜机将设备转数设置在一定的转数范围内，在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶，注

VTC-200真空旋转涂膜机/匀胶机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。

VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空，工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜，且不会过多浪费，节约材料。腔室的上盖可以对样品进

VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在样品表面

微型吸盘与VTC-100配用，是针对微小样片的固定而设计。选用优质塑胶制作而成，具有操作方便，吸附稳定的优点。