GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作，也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。

OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜；其炉管外径为11″，炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片；加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体顶端和底部，升温速率高达20℃/s ；温控系统采用PID30段程序化控制，控温精度为±1℃，并且仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出。

GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪可对样品进行镀碳处理，可处理的样品直径可达50mm，真空度可达到10-2torr，适合用于实验室对小样品进行表面的蒸碳镀膜使用

GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序，并精确控制温度200ºC-1500ºC（或者1200ºC-1700ºC），Z大可蒸镀直径2“的薄膜样品，样品台可旋转，以获得更均匀的薄膜。可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，广泛用于电极的制备和有机物发光LED。