真空热压炉OTF-1200X-VHP4

简要描述：真空热压炉OTF-1200X-VHP4是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具，在5T压力下可键合多层基片。本机可以加热到1100 ℃，并设有30段控温程序。

产品分类CLASSIFICATION

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详细介绍

产品型号	真空热压炉OTF-1200X-VHP4
主要特点	1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高反射率和洁净度，同时延长使用寿命。 2、石英管两端设有带水冷的法兰。 3、在石英管内真空环境下，通过底部可调整弯管移动液压柱，将压力传输到模具。
技术参数	1、输入电源：AC 220V 50/60Hz 6KW 2、输出功率：2.2KW 3、石英管：外径Φ100mm，内径Φ95mm，长1200mm 4、加热区域：300mm 5、zui高工作温度：1100℃ 6、控温精度：±1℃ 7、电动压力泵zui大负载：20T 8、气缸：Φ25mm 9、可移动行程：15mm 10、zui大压力：6T（压力表显示10MPa） 12、真空度：10^-2torr（机械泵），10^-5torr（分子泵）
产品规格	尺寸：1050mm×750mm×1750mm；重量：365kg
可选配件	1、真空泵 2、循环水冷机 3、耐高温压力模具

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