高真空磁控溅射蒸发镀膜仪结合了磁控溅射和真空蒸发两种镀膜技术

更新时间：2025-09-11 点击次数：95

　　高真空磁控溅射蒸发镀膜仪是用于在真空环境中通过磁控溅射技术和蒸发法结合制备薄膜的设备，主要用于半导体材料、光学元件等领域的薄膜制备。 ‌

　　性能特点

　　薄膜质量高：磁控溅射沉积的薄膜致密、附着力强，可准确控制膜厚和成分；真空蒸发可实现高纯度薄膜的沉积，两者结合能制备出性能良好的薄膜，如在光学薄膜、电子器件薄膜等方面具有良好的应用效果。

　　镀膜材料广泛：能处理金属、合金、化合物、半导体等多种材料，既可以通过磁控溅射沉积高熔点金属、合金及化合物薄膜，也可以通过真空蒸发沉积纯金属、有机物等薄膜。

　　工艺灵活性强：可通过调整磁控溅射的功率、气体压力、靶基距，以及真空蒸发的加热温度、蒸发速率等参数，实现多种镀膜工艺，如单靶溅射、多靶共溅射、反应溅射、蒸发镀膜以及它们的组合工艺等。

　　应用领域

　　电子领域：用于制备半导体芯片的电极、互连层、阻挡层，以及平板显示器的透明导电膜、光学介质膜等，如氧化铟锡透明电极、铜互连层等的制备。

　　光学领域：可制备增透膜、滤光膜、反射膜等光学薄膜，提高光学元件的光学性能，如在激光器件、太阳能电池、光学镜头等方面的应用。

　　机械领域：在模具、轴承等表面沉积硬质耐磨涂层、自润滑涂层等，提高其硬度、耐磨性和使用寿命。

　　装饰领域：用于在汽车内外饰件、电子产品外壳、珠宝饰品等表面镀制金属膜、合金膜、彩色膜等，提升产品的美观性和装饰性。