带3路浮子混气RTP管式炉RTP-1000-LV3F是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达 3″ ）的退火而设计，配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热，Z快升温速度可达 100℃/s，配有RS485 接口，可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体移动，Z高工作温度达1200°C，加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s。为获得Z快加热，可预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置；为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子至另一端，本机是低成本进行快速热处理的理想设备。

1500℃快速升温管式炉GSL-1500X-RTP50是一款高温管式炉，工作温度能够达到1500℃。本机底部设有一对滑轨，炉管通过滑轨可进行滑动平移，能够实现快速升温和降温的效果。为了实现Z快速度的加热，可在理想的温度下进行炉管的预加；为了更快速的冷却，可移出炉管强迫进行空气冷却。因此，本机可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，其性能可达到国外同类产品的标准。

1100℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）GSL-1100X-III-D11-8外炉管直径达到11″，内管直径8.5″，在加热管一端装有一对高真空不锈钢法兰，法兰上配有机械压力表和阀门，三个温区都采用30段可编程数字控温器，并配有K型热电偶进行测温，专门针对于在金属箔上生长薄膜物质。

1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4Z高工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、太阳能电池的电极材料和其他电池电极材料等。

小型高温高压管式炉OTF-1200X-HP-12炉管采用镍基合金钢制作而成，Z高温度可达1100℃，同时可向炉管中通入氧气、氮气、水蒸气及惰性气体等。