1100℃三温区带滑轨8.5″管式炉GSL-1100X-8.5-SR-III是三温区滑轨真空管式炉，可通入混合气体进行低压力化学气相沉积处理。本机可在不同气氛下，在Z大6″的基片上生长多种薄膜。

1100℃三温区11″管式炉GSL-1100X-11-III是三温区大尺寸系列管式炉，炉管直径达到11″。本机广泛用于真空或气氛保护环境下对材料进行烧结。

大口径管式真空气氛炉GSL-1100X采用高纯石英管，外径规格有6″、8″、8.5″、11″可选，并配有不锈钢法兰，可进行抽真空或通入其他气氛气体操作，主要用于大尺寸样品烧结的需求。

1200℃七温区独立控制管式炉OTF-1200X-VII（定制）采用独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安全可靠、操作简单等特点。

1200℃五温区独立控制管式炉OTF-1200X-V（定制）采用独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安全可靠、操作简单等特点。

1200℃五温区开启式管式炉OTF-1200X-V每个温区分别由独立的温控系统控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量生产，主要针对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺。具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安全可靠、操作简单等特点。