PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Φ160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率3.0MHz（ 1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。

PCE-8等离子清洗机是一款较大型的清洗机，等离子腔体为 Φ8.5 “×12“的石英腔体，采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。

产品简介：PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内*清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现对样品的离子蚀刻。此外，其可在特定条件下

PCE-66紫外臭氧清洗机（带搅拌机构）是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。内置加热管，可加热基片，加热温度上限150℃，PID方式控温，可设置30段升降温程序。带有搅拌功能，用作氧化物包括干法电极电池正极材料的表面处理。

PCE-66紫外臭氧清洗机是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。内置加热管，可加热基片，最高加热温度150℃，PID方式控温，可设置30段升降温程序。

PCE-22紫外臭氧清洗机提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。