CE-600、800自动清洗机是专门用于晶圆、QFN、玻璃、基板、手机模组和陶瓷等切割后的清洗设备。此系列为二流体清洗方案，采用可编辑控制器＋全彩色触摸屏为操作系统，令设备性能更加稳定、操作便捷。采用特殊内部结构设计能均匀混合，产生细微液滴尺寸的喷雾或粗液滴喷雾。

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。

产品简介：转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计。在等离子体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，转瓶等离子清洗机可以高效率的处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变了传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。该机同样也可以处理非粉末的样品，实现了一机多用的功能。

GSL-1100X-PJF-A等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件的环境下活化和清理材料（如单晶片、光学元件、塑料等）表面杂质，且清理速度迅速。本机是为获得高质量的外延薄膜或光学涂层进行预先表面处理的合适的工具选择。具有一个样品台，将样品固定在样品台上后可进行X

VTC-200-CE半柜式清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿 wafer.半径方向来回扫动,同时配备有去离子水淸洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制 wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作，全不锈钢机柜,耐魔蚀透明观察盖,丝杆直线导轨,不锈钢内腔,设计合理,经久耐用。伺服马达控制旋转速度和时间,自动控制显影、清洗和吹干,显影/清洗均匀性和重复性好。

PCE-22-LD紫外臭氧清洗机采用不需要任何溶剂的干式清洗技术，对清洗表面没有损伤。采用大功率低压石英汞灯，产生波长185nm和254nm的紫外线，185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的臭氧分子O3，254nm的光同时激发清洗表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短，且同时也被254nm的光分解，因此可调节样品台到灯管的距离来优化性能。