ZKXB-A真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件，能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。

ZKXB-B真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件，能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。

该自动钙钛矿涂膜系统采用自动吸液注液方式，注液后在基片表面自动旋涂出一层薄膜，旋涂后移动基片至烤胶机表面进行薄膜烘干。液体可进行搅拌防止沉淀，如需加热可对液体进行加热操作。整个操作过程在11寸触摸屏上进行设置，操作直观方便。该设备适用于大专院校及科研实验室进行的钙钛矿薄膜及其他液体薄膜的研究，可根据客户各种要求进行设备定制。

VTC-100ML多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜，半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成

VTC-100PAH真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版等表面涂膜制备。VTC-100PAH真空旋转涂膜机是一款高性能精密匀胶机，采用了优良的设计理念，配合精密的运动控制系统，可以实现高精度、高均匀度的匀胶操作。设备腔体采用聚丙烯材质，具有耐热性、电绝缘性、和良好的高耐磨加工性能等特点。本机腔体不可抽真空，工作时利用真空吸盘及气路管线与外部真空泵相连，能很好的将样件牢固的吸附在载样盘上

VTC-100PA-II真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。