VTC-200-4P喷雾旋转涂覆机,匀胶机、显影机、甩胶机、旋涂仪、spin coater主要用于半导体工艺、制版工艺过程中图形的显影及表面涂覆工艺，是一款上盖可以加热的匀胶机、显影机，在匀胶或显影过程结束后使用加热功能使胶体薄膜中的溶剂继续蒸发到含量低。工作过程中显影液或胶体以雾状喷到样片上，使溶液在样片表面均匀分布，有利于薄膜和显影过程的顺利进行。本机电机部分、温度控制部分、注液部分

VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空，使样品在*真空的状态下进行涂膜，适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用。工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速

VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备利用两段程序控制速度。首先开动涂膜机将设备转数设置在一定的转数范围内，在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶，注胶结束后涂膜机会提升转数至第二段的极限转数进行匀胶，在匀胶之前要对匀胶