VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统

产品简介

VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统是新自主研制开发的镀膜设备，主要由传递室和溅射镀膜室两部分组成，基片架可以在传递室和溅射室实现往复运动，由调频电机控制，自动同步运行，且往复位置和运动速度均可以设定，两室内均有定位功能，可实现原点复位。可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点

• 由传递室和溅射镀膜室两大部分组成，可实现快速连续的进样溅射镀膜。

• 可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

• 整机模块化设计，传递室、真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。

• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数