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详细介绍
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 综合 |
VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控溅射仪至多可选配四个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
至多可选配四个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。
可制备多种薄膜，应用广泛。
体积小，操作简便。
整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。
| 产品名称 | VTC-600GD高真空磁控溅射仪 | |
| 产品型号 | VTC-600GD | |
| 安装条件 | 本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要 | |
| 主要参数 | 1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：＜3.5KW 3、腔体内径：Ø300mm 4、极限真空8.0x10-5Pa 5、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 6、靶枪数量：4个 7、靶枪冷却方式：水冷 8、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 9、直流溅射功率：500W（可选） 10、射频溅射功率：300W 11、载样台：Ø140mm 12、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 13、保护气体：Ar、N2等惰性气体 14、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM | |
| 产品规格 | ·尺寸： 主机尺寸：850mm×760mm×660mm，整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm； ·重量：190kg | |
| 序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
| 1 | 直流电源控制系统 | （可选）套 | - |
| 2 | 射频电源控制系统 | 1套 | - |
| 3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | - |
| 4 | 分子泵 | 1台 | - |
| 5 | 冷水机 | 1台 | - |
| 6 | 聚酯PU管（Ø6mm） | 4m | - |
| 序号 | 名称 | 功能类别 | 图片链接 |
| 1 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | （可选） |  - |
| 2 | 可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜 | （可选） | - |
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