1200℃立式真空小管式炉OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为± 1℃。

1200℃微型开启式管式炉OTF-1200X-S是小型管式炉，Z高工作温度为1200℃，Z大功率为1200W，可配置直径为1″ 或2″的高纯石英炉管。炉管两端配置一对不锈钢法兰，设有机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头，允许样品在真空和气体保护下进行烧结。

1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温度可达1400℃。

1400℃双温区真空气氛管式炉GSL-1400X-II以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别适合批量生产使用。

1400℃三温区真空气氛管式炉GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和708P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别适合批量生产使用。

1500℃高温真空管式炉GSL-1500X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，Z高温度可达1500℃。