钙钛矿镀膜机

简要描述：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

产品型号：
厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-05-08
访问量：1559

产品咨询联系我们

产品分类CLASSIFICATION

相关文章ARTICLES

查看全部

详细介绍

品牌	其他品牌	价格区间	1-5万
产地类别	国产

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。

产品名称

钙钛矿镀膜机

主要特点

1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度可达180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

技术参数

1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×

450mm×450mm

2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统

3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10^-4Pa

4、系统漏率：≤1×10^-7Pa

5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、

控温，加热温度400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电

源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开

启

6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置Ø120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm

7、加热温度：RT-180℃，测温、控温

8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999Å

产品咨询

钙钛矿镀膜机

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：