GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作，也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。

GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300?，特别适用于SEM样品的镀膜。

OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜；其炉管外径为11″，炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片；加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体顶端和底部，升温速率高达20℃/s ；温控系统采用PID30段程序化控制，控温精度为±1℃，并且仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出。

GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。