VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头（另有1英寸靶头可选）和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形，甚至损坏样品；样品台可旋转，可以使样品边旋转边镀膜，使镀膜后的样品表面膜厚均匀。设备外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。VTC-16-SM小型高能

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序，并精确控制温度200ºC-1500ºC（或者1200ºC-1700ºC），Z大可蒸镀直径2“的薄膜样品，样品台可旋转，以获得更均匀的薄膜。可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，广泛用于电极的制备和有机物发光LED。