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清洗设备
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PCE-3等离子清洗机使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染,在射频电源的作用下,Z大去除速率为10nm/min。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理,将对生长具有显著的作用。
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