GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法，该方法结构简单、实用，使用可靠，适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。 适用范围：钙钛矿材料、二维材料、光伏太阳能电池的器件制备等。

产品简介：BD-200µl移液器专门用于扣式电池电解液的注液工序，也广泛应用于生物、化学、临床、食品分析、免疫检测等实验中溶液的移取操作，其外形是根据人体学设计，美观且操作方便，软按键可轻易转换5种移液模式，并自带自动校准功能，使得移液更加精准。

VTC-100-SE基本型桌面式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。是一种采用高精度微量液体平流传输和超声波雾化震荡技术均匀喷涂在一定温度的物件表面，多次沉积成均匀涂层膜的纳米喷胶设备。VTC-100-SE基本型桌面式喷胶机采用不锈钢机身，桌面台式设计，结构紧凑，七寸全彩触屏界面，高精密电缸控制，整体设计布局合理，简单易用。

VTC-200-SE 8寸柜式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。是一种采用高精度微量液体平流传输和超声波雾化震荡技术均匀喷涂在一定温度的物件表面,多次沉积成均匀涂层膜的纳米喷胶设备。VTC-200-SE 8寸柜式喷胶机采用铝型材机柜,耐腐蚀透明PC板和喷塑机柜钣金组成,美观大方。七寸全彩触屏界面,高精密电缸和伺服系统控制,整体设计布局合理,简单易用。

HT-200型精密程控烤胶机是—种设计为精确控温、准确计时和接近式加热的高性能实验窒设备,可实现智能化編程烤胶控制。HT-200型精密程控烤胶机烤胶温度≤300°℃（更高温度可选）,可实现控温在±0.5℃以內,温度分辨率在0.1℃,表面温度均匀性小于1%的精确控温操作。

HT-150型精密烤胶机是一种设计为精确控温、真空吸附、高热均匀性的高性能实验室设备,可实现精密控温烤胶操作。设计大烤胶基片尺寸为6寸圆晶，体积小,适于手套箱内操作。HT-150型精密烤胶机高烤胶温度250℃,稳定控温后可实现温度波动在±0.2℃以內,温度分辨率在0.1℃,表面温度均匀性小于1%的精确控温操作,并可实现分段线性程控温度操作。