沈阳科晶即将参加中国化学会第30届学术年会

        沈阳科晶自动化设备有限公司将于2016年7月1日-4日在大连理工大学参加中国化学会第30届学术年会。中国化学会学术年会每两年召开一次，是我国化学领域级别zui高、规模zui大的学术盛会，是化学工作者启迪思想、交流思想的平台，对进一步推动我国化学科学的发展及化学学科在国内外的学术影响起到积极的作用。此次会议设有46个分会和12个论坛，沈阳科晶作为中国材料科学发展的不懈支持者，不仅派出代表积极参与其中，并将展出一批相关领域的设备。在此，诚挚欢迎广大业内外人士前来参观、咨询。

        时间：2016年7月1日-4日

        地点：辽宁省大连市甘井子区凌工路2号大连理工大学

        主办单位：中国化学会

        承办单位：大连理工大学

        展位：综合教学楼1号楼一层5#展蓬73、74、75号展位

        展位现场负责人：曲   郑