高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

产品型号

  高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

主要特点

  1、双层壳体，配有风冷系统，壳体温度<60℃。

  2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高反射率和保护炉膛洁净度。

  3、采用PID控制器 ，可以设置30段升降温程序。

  4、质量流量系统采用316不锈钢制作而成。

  5、已通过CE认证。

技术参数

  管式炉

  1、电源：AC 220V   50/60Hz

  2、石英管：外径Φ80mm，内径Φ75mm，长1000mm

  3、加热元件：掺钼铁铬铝合金电阻丝（表面涂有氧化锆）

  4、加热区域：440mm

  5、恒温区域：150mm

  6、工作温度：zui高1200℃，连续工作1100℃

  7、zui大升降温速率：20℃/min

  8、控温精度：±1℃

  9、热电偶：K型

  高真空机组

  1、壳体：600mm×600mm×700mm，zui大承重275kg

  2、真空泵：德国Pfeiffer真空泵

  3、显示屏：LCD数字显示

  4、抽气速率：N₂-33L/s，He-39L/s，H₂-32L/s

  5、工作范围：1000mtorr-10^-7mtorr

  6、极限：10^-8mtorr（无泄漏）

  质量流量混气系统

  1、电源：单相AC208-240V  50/60Hz

  2、功率：18W

  3、尺寸：600mm×600mm×700mm

  4、混气箱：Φ80mm×120mm